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发布时间:2020-03-14 12:10:00 作者:昆山杰宝森包装
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真空镀膜
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。
真空镀膜应用
目前有多种金属可用作蒸镀金属的原材料,但是在包装技术领域中用得***广、***普遍、且***有实用经济价值的应首推铝(具有高纯度的铝材)在直接真空蒸镀法中的金属镀层厚度一般为0. 007一0. 008mm 。
***近已开发的新一代的转移法真空镀金属法中所蒸镀的金属厚度只有前者(直接法)的1/500左右(约为0. 000015mm )。过去国外以及目前国内大部采用直接法进行真空镀金属工艺,其缺点是耗金属量相对较多;对基材的平整度和光洁度的要求也特别高;特别是制造所谓“镀铝纸”时,除对作为基材的纸张要求具有极1佳的平整、光洁度外,因纸含水量较多(10%左右),在高真空和较高温度下易失水变脆,使工艺更加复杂,产品成本也相应提高。
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